
發(fā)布日期:2015-09-02 作者:王曉娟, 謝飛, 程健, 潘建偉 瀏覽次數(shù):
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核心提示:摘要: 在粉末滲劑和45 鋼試樣上施加4 A 電流的直流電場(chǎng),于800 ℃進(jìn)行直流電場(chǎng)增強(qiáng)滲硼。以X 射線衍射、光學(xué)顯微觀察和顯微硬度測(cè)試等手段,分析位于電場(chǎng)不同位置試樣滲硼層的相結(jié)構(gòu)、顯微組織、厚度與及顯微硬度分布。結(jié)果表明: 電場(chǎng)滲硼的滲層組織形態(tài)基本與常規(guī)滲硼的一致,以鋸齒狀楔入基體,但其相結(jié)構(gòu)、顯微硬度分布、厚度等與試樣位置有關(guān); 朝正極面的滲
層一般由FeB 和Fe2B 兩相組成,滲層較厚且較硬; 朝負(fù)極面的滲層主要由Fe2B 組成,隨滲硼時(shí)間延長(zhǎng)FeB 先增加,后減少至消失; 滲硼時(shí)間等于及